Veden puhtaudella on suuri merkitys

Puhdasvedellä tarkoitetaan vettä, jota on puhdistettu likapartikkeleista tyypillisesti käänteisosmoosilla (Return Osmosis / R.O) tai deionisoinnilla (Deionisation / D.I). Puhtautta mitataan yleensä veden johtavuudella (µS/cm) ja mitä enemmän vedessä on johtavuutta nostavia partikkeleita, sitä epäpuhtaampaa se on. Tyypillisiä likapartikkeleita ovat erilaiset suolat, pinta-aktiiviset aineet, biosidit, metallihiukkaset, jne. Lisäksi raakaveden laatu vaihtelee vuodenaikojen mukaan, ja paikallisella vesijohtoverkostollakin on oma vaikutuksensa hanaveden likapartikkelimäärään.

Partikkelit voivat metallipintaan jäädessään muodostaa sähkökemiallisia pareja, jotka synnyttävät välitöntä korroosioreaktiota (hyppyruoste) ja/tai heikentävät maalin tarttuvuutta. Lisäksi kaikki likahiukkaset heikentävät korroosiosuojaa ja maalin tartuntaa, ja siksi myöhemmin voi esiintyä voimakasta maalipinnan alla etenevää korroosiota, jos kosteus on päässyt läpäisemään huokoisen maalipinnan.

Puhdasveden käyttö on lisääntynyt ohutkalvoteknologioiden myötä kemikaaliliuoksissa ja huuhteluissa. Jos veden puhtaustaso ei ole riittävä, ohutkalvoteknologian teho heikkenee ja voi pahimmillaan muuttua toimimattomaksi. Puhdasvettä käyttäville esikäsittelyprosesseille 30-50 µS/cm taso on yleensä riittävä, kun puolestaan hanaveden johtavuus on Suomessa luokkaa 200-300 µS/cm eikä se riitä korvaamaan puhdasvettä ilman laatuseuraamuksia.

Mistä metallin pintaan jäävät likapartikkelit tulevat?

Voisi ajatella, että puhdasvesi huuhtelee hanavettä paremmin käsiteltävän metallin pintaa esimerkiksi edellisen käsittelyn jäämistä tai kemikaaleista. Mutta tästä ei siis ole kyse, vaan siitä että suomalainen hanavesi sisältää yllättävän paljon esikäsittelyprosessille haitallisia likapartikkeleita.

Veden lisäksi on muitakin likapartikkeleiden lähteitä, kuten:

– Vääränlaiset kemikaalit tai laitteistot kyseessä olevan lian poistamiseksi
– Liian vähän huuhteluvaiheita
– Laitteistojen tekniset puutteet tai virheet (esim. pesu- ja huuhteluvedet sekoittuvat)
– Käytetään liian suurta linjanopeutta prosessin pesutehoon nähden
– Laitteiston ylläpitoa on laiminlyöty (kalkkia, sakkaa, lietettä)
– Pesujen tai huuhteluiden vaihtoväli on liian pitkä (vedenjohtavuus, Ph tasot)
– Tuotantotilan ilmankosteus ja lika

Pesukemikaalit ja huuhteluvedet saattavat näyttää kirkkailta ja hyvälaatuisilta, mutta todellisuudessa käsittelyiden jälkeinen pinnan puhtaus ei riitä halutun korroosiosuojan ja maalintarttuvuuden saavuttamiseen.

Hana- vai puhdasvettä?

Puhdasveden likapartikkelien määrä on siis huomattavasti alempi kuin hanavedessä, ja sillä on suuri merkitys lopputuloksen laatuun. Markkinoilla on ratkaisuja

(i) jotka toimivat hanavedellä eikä ole tarkoituksenmukaista käyttää puhdasvettä
(ii) joiden laatu paranee selvästi, jos hanavesi korvataan puhdasvedellä
(iii) jotka tarvitsevat puhdasveden käyttöä toimiakseen vakaasti ja korkealaatuisesti

Rautafosfatointeja on korvattu 3-5 vaiheisilla ohutkalvoteknologioilla, ja useimmiten niissä käytetään hanavettä. Jos prosessille suositellaan puhdasveden käyttöä, on hyvin todennäköistä, että sen korvaaminen hanavedellä johtaa laatuongelmiin ennemmin tai myöhemmin. Vedetön 1-vaiheinen Toran on laadukas ja kustannustehokas ratkaisu, kun tarve on öljynpoistavalle maalin tarttuvuutta ja korroosiosuojaa parantavalle esikäsittelylle – lue lisää täältä.

Jos vesipohjaisissa metallien esikäsittelyratkaisuissa halutaan päästä high-end laatutasoon, puhdasveden käyttö on välttämätöntä. Esimerkiksi Pronortec ohutkalvoteknologialla saavutetaan muita vastaavia teknologioita (Zirkonium/Silaani/Titaani) parempi laatutaso – lue lisää täältä.

Löydät lisätietoa kauttamme saatavista korkeatasoisista ja helppokäyttöisistä puhdasveden tuotantoratkaisuista – lue lisää täältä.